等离子刻蚀的化学反应

cf4等离子体刻蚀sio2反应过程

反应离子刻蚀

rie (reactive ion etching)反应离子刻蚀

中国等离子体刻蚀机取得技术突破芯生产新征程

等离子表面蚀刻

40nm 硅栅等离子体刻蚀工艺开发优化

感应耦合等离子体刻蚀系统

等离子体通过光刻胶或掩膜窗口与薄膜发生纯物理或化学反应(或结合)

网站首页

感应耦合等离子体刻蚀在聚合物光波导制作中的应用

通过等离子体的化学反应和物理吸附作用,实现对材料表面的刻蚀

详解制备高亮度led的等离子刻蚀技术

优化等离子体清洗刻蚀工艺,解决晶圆电荷问题,提升产品封装质量

光刻与等离子体刻蚀技术

电感性等离子体刻蚀ccp

刻蚀与等离子刻蚀之间的干法刻 蚀技术,同时利用了物理溅射和化学反应

对战百亿巨头拉姆研究半导体刻蚀赛场中微公司赶超的底气何在

平面等离子体刻蚀

干法刻蚀是通过等离子气与硅片发生物理或化学反应(或结合物理,化学

等离子平面刻蚀机

等离子

表面刻蚀解决方案,等离子表面刻蚀

等离子体刻蚀中边缘离子轨迹的控制与优化

偏压来实现定向蚀刻,从而使来自等离子体的离子种类朝着衬底表面加速

等离子体对材料表面进行刻蚀的设备,其原理涉及化学反应和物理离子

学术干货│寻根究底——等离子刻蚀技术

一种低温等离子体干法刻蚀方法及其应用与流程

等离子刻蚀中的硅片表面均匀性控制技术演进

开发了基于sf6/o2反应气体的等离子体低温刻蚀方法

微细加工