micralyne的mems加工工艺刻蚀
离子束刻蚀系统
超精密加工的关键设备:揭秘离子束抛光机床之二
等离子刻蚀 量产型
为中国科技大学研制的大型离子束刻蚀装置
nie
nie
美国aja atc
离子束刻蚀
13年专注蚀刻加工
蚀刻加工车间详情
专精快蚀刻浅析蚀刻加工的精度和侧蚀问题
离子束刻蚀 nie
一种基于聚焦离子束刻蚀制备的范德华激元材料微纳结构及其制备方法与
光伏行研报告:《离子束溅射刻蚀设备工艺技术》
实现高精度深硅刻蚀的方法
nie
蚀刻速率对产品有哪些影响
disc
成像加工设备有以xe,ar,n,o为离子源的聚焦离子束系统(plasma
nie
一种利用聚焦离子束加工纳米双极电极阵列的方法及用途
耦合等离子体刻蚀机包括电容耦合(ccp)与电感耦合(icp),相比ecr结构
离子束溅射与刻蚀系统科研装备研制项目通过验收
干法刻蚀是把硅片表面 暴露于气态中,产生等离子体,等离子体通过光刻
微加工技术关于刻蚀的综述报告,期末提交论文 微加工技术——刻蚀简介
pta
离子束刻蚀机 nie
sentech刻蚀机icprie等离子刻蚀机si500
离子束刻蚀系统lkj |